報道稱，日本 Rapidus 公司正在力爭量產(chǎn)最先進(jìn)半導(dǎo)體，ASML 將為 Rapidus 提供工廠建設(shè)和維護(hù)檢查等協(xié)助，到 2028 年前后將日本國內(nèi)人員增加 40%。

　　ASML 在承擔(dān)半導(dǎo)體制造主要工序的光刻設(shè)備領(lǐng)域居世界首位，是全球唯一能生產(chǎn)極紫外(EUV)光刻機(jī)的制造商。EUV 是量產(chǎn) 5～7nm 尖端半導(dǎo)體所需設(shè)備，因此對于日本本土半導(dǎo)體來說，ASML 的支持至關(guān)重要。

　　ASML 將在北海道千歲市周邊建設(shè)技術(shù)支持基地，由約 50 名技術(shù)人員在 Rapidus 建設(shè)的半導(dǎo)體試生產(chǎn)線上安裝 EUV 光刻設(shè)備，為工廠建設(shè)和維護(hù)檢查提供協(xié)助。

　　報道還稱，美國應(yīng)用材料公司也將在今后數(shù)年內(nèi)在日本將人員增加 60%。美國科林研發(fā)公司(LamResearch)考慮在北海道新建設(shè)施。